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70余幅两岸书画名家作品在北京展出******

　　中新社北京1月6日电 (刘玥晴)“笔墨抒怀 情聚两岸——海峡两岸书画名家交流展”6日在北京开幕，展出叶培贵、孟繁禧等42位大陆书画家以及沈荣槐、蔡丰吉等11位台湾书画家的作品共74幅。

　　两岸书画名家交流展于2015年创办，迄今已举办了7届、10次展览。此次展览由北京市台湾同胞联谊会、民革北京市委会主办，北京侨福置业有限公司联合主办，为两岸民众搭建了交流书法和绘画的平台，促进心灵契合与互相学习。

　　北京市台联会长高峰在开幕式上致词表示，交流展是京台民间交流的历史见证，也是两岸民众以中华传统文化为载体增进彼此认同的有效实践。我们始终坚信，两岸同胞走亲走近是民心所向、大势所趋。

　　台湾书画家沈荣槐通过视频致辞表示，交流展以中华传统书画文化为纽带，增进了两岸书画界专业人士及爱好者间的沟通，虽然受到疫情影响却不曾中断，体现出两岸割不断的文化根脉。盼疫情阴霾尽快散去，两岸书画家们能够早日面对面切磋交流。

　　大陆书法家翟鑫向中新社记者介绍了他的作品《奋进新征程 建功新时代》，表示希望两岸同胞在新征程上继续传承和发扬中华优秀传统文化。他曾6次前往台湾进行交流，结识了诸多岛内友人，也非常喜欢当地优美的风景和清爽的高山茶，期待再次赴台参展。

　　中共中央台办宣传局局长马晓光、中共北京市委统战部副部长黄克瀛、北京市台联党组书记黄塞溪、北京市台办副主任张磊等出席开幕式。

　　在开幕式上，北京台湾会馆、北京侨福当代美术馆和中央民族大学民族博物馆签署了馆际联盟协议，为今后两岸文化展览资源共享开辟新路径。本次展览将在北京台湾会馆展出至1月底，并将于2月初在北京侨福当代美术馆巡展。(完)

多光子非线性量子干涉首次实现 为新型量子态制备等应用奠定基础******

　　科技日报合肥1月16日电 (记者吴长锋)记者16日从中国科学技术大学获悉，该校郭光灿院士团队任希锋研究组与国外同行合作，基于光量子集成芯片，在国际上首次展示了四光子非线性产生过程的干涉。相关成果日前发表在光学权威学术期刊《光学》上。

　　量子干涉是众多量子应用的基础，特别是近年来基于路径不可区分性产生的非线性干涉过程越来越引起人们的关注。尽管双光子非线性干涉过程已经实现了20多年，并且在许多新兴量子技术中得到应用，直到2017年，人们才在理论上将该现象扩展到多光子过程，但实验上由于需要极高的相位稳定性和路径重合性，一直未获得新进展。光量子集成芯片，以其极高的相位稳定性和可重构性逐渐发展成为展示新型量子应用、开发新型量子器件的理想平台，也为多光子非线性干涉研究提供了实现的可能性。

　　任希锋研究组长期致力于硅基光量子集成芯片开发及相关应用研究并取得系列重要进展。在前工作基础上，研究组通过进一步将多光子量子光源模块、滤波模块和延时模块等结构片上级联，在国际上首次展示了四光子非线性产生过程的相干相长、相消过程，其四光子干涉可见度为0.78。而双光子符合并未观测到随相位的明显变化，这同理论预期一致。整个实验在一个尺寸仅为3.8×0.8平方毫米的硅基集成光子芯片上完成。

　　这一成果成功地将两光子非线性干涉过程扩展到多光子过程，为新型量子态制备、远程量子计量以及新的非局域多光子干涉效应观测等应用奠定了基础。审稿人一致认为这是一个重要的研究工作，并给出了高度评价：该芯片设计精良，包含多种集成光学元件，如纠缠光子源、干涉仪、频率滤波器/组合器；这项工作推动了集成光子量子信息科学与技术研究领域的发展。

　　（文图：赵筱尘 巫邓炎）